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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱(chēng):

可實(shí)現(xiàn)高的精度測(cè)量的高溫退火爐/測(cè)試儀器

產(chǎn)品型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

所在地:北京市

更新日期:2023-09-19

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

可實(shí)現(xiàn)高的精度測(cè)量的高溫退火爐/測(cè)試儀器是華測(cè)公司開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度高,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染??稍诟哒婵?,高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。

產(chǎn)品特性Product characteristics
品牌華測(cè)

高溫退火爐


目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的高的精度測(cè)量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測(cè)公司開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)精度,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無(wú)氣氛污染??稍诟哒婵?,高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間,再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講,都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單,有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率,實(shí)現(xiàn)溫度控制操作!

     目前電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻、高功率設(shè)備,將對(duì)電網(wǎng)造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號(hào)測(cè)量過(guò)程中影響弱信號(hào)的采集,華測(cè)儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用特殊參數(shù)分析技術(shù),實(shí)現(xiàn)了高達(dá)120MHz的高頻測(cè)量,從而滿足了很多半導(dǎo)體,功能材料和納米器件的測(cè)試需求.

可實(shí)現(xiàn)高的精度測(cè)量的高溫退火爐/測(cè)試儀器設(shè)備優(yōu)勢(shì)

可實(shí)現(xiàn)高的精度測(cè)量的高溫退火爐/測(cè)試儀器阻抗分析儀測(cè)量&高溫爐基本參數(shù)

操作軟件

高速升溫時(shí),配套的快速反應(yīng)的紅外線反射爐控制裝置,本控制裝營(yíng)采用可編程溫度控制器。高性能緊湊設(shè)計(jì),響應(yīng)速度愉。為了高速加熱設(shè)備采用PID溫度控制, 同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試價(jià)溫度。

●據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù), 您也可以簡(jiǎn)單輸入濕度程序設(shè)定和外部信號(hào)。另外還可以在電腦上星示熱中的溫度數(shù)據(jù)。

●自適應(yīng)熱電偶包括J、I、S、K、J、T、E、L、N、R、S、B、以及L、U、W型。

●最大可設(shè)定32個(gè)程序,256個(gè)步理的程序。

●30A.60A. 120A內(nèi)置 TSCR電路所以范圍很廣。

●250mmWx 380mmDx157mmH小巧尺寸D設(shè)備配置。

不一樣的加溫方式及更多的應(yīng)用場(chǎng)景

可實(shí)現(xiàn)高的精度測(cè)量的高溫退火爐

可實(shí)現(xiàn)高的精度測(cè)量的高溫退火爐






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